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二氧化硅拋光液該拋光液被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體材料如硅片，鍺單晶片，砷化鎵晶片，硬盤玻璃，藍(lán)寶石晶片，氮化硅晶片的(CMP)化學(xué)表面拋光工藝，具去除速率高、使用方便、 拋光效果好等特點(diǎn)。拋光后晶片表面的粗糙度可以達(dá)到0.2nm以下，同時(shí)可以提高晶片的粗糙度和平行度等，…